Hitachi High-Tech propose une inspection à haute sensibilité pour les dispositifs à semi-conducteurs


Article par : ACN Newswire

Le DI2800 d’Hitachi est un système de métrologie à grande vitesse conçu pour identifier les défauts et les particules sur les plaquettes à motifs jusqu’à 8 pouces (200 mm).

Hitachi High-Tech Corp. a lancé le système DI2800 d’inspection des défauts de plaquette à fond noir Hitachi, un composant essentiel des capacités de métrologie de tout fabricant de semi-conducteurs. Le DI2800 est un système de métrologie à grande vitesse conçu pour identifier les défauts et les particules sur des tranches à motifs jusqu’à 8 pouces (200 mm).

Avec son débit et ses performances élevés, le DI2800 peut aider à garantir la fiabilité et la sécurité des appareils, en particulier pour les applications hautement sensibles telles que l’Internet des objets (IoT) et les domaines automobiles où une inspection à 100 % est requise.

Avec l’essor des réseaux de communication de nouvelle génération (5G) et l’adoption accélérée des véhicules électriques ces dernières années, la demande de dispositifs à semi-conducteurs dans les domaines de l’IoT et de l’automobile, où la fiabilité et la sécurité sont primordiales, a augmenté. Dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs conventionnels, des inspections ponctuelles sont effectuées à des fins de gestion des processus et d’amélioration du rendement. Cependant, pour les dispositifs à semi-conducteurs utilisés dans les domaines de l’IoT et de l’automobile, une inspection à 100 % doit être effectuée pour aider à identifier les produits défectueux lors de la fabrication afin de garantir une fiabilité et une sécurité élevées. Pour servir ces domaines, un système d’inspection des défauts de plaquette doit avoir la capacité d’effectuer une inspection à 100 % avec une sensibilité élevée à grande vitesse.

Le système DI2800 d’inspection des défauts des tranches sur fond noir d’Hitachi High-Tech répond à ces besoins du marché. Le système utilise une technologie de simulation d’intensité de diffusion pour optimiser l’éclairage et l’optique de détection, permettant une inspection très sensible des défauts de la plaquette à motifs développés au cours du processus de fabrication. Il a une sensibilité de détection de taille de particule standard de 0,1 micron sur des plaquettes en miroir. Cette performance est même possible sur des appareils aussi petits que 0,3 mm carré, ce qui s’est déjà avéré difficile en raison de la sensibilité et des limites de traitement des données. Avec une séquence d’inspection hautement optimisée, le DI2800 est capable de débits de plus de 40 tranches de 200 mm par heure.

Hitachi High-Tech fournira ce produit aux clients en combinaison avec les SEM CS4800 et 3D SEM CT1000 de mesure avancée de CD, qui sont déjà sur le marché, répondant aux divers besoins de métrologie de la production de masse de dispositifs semi-conducteurs pour les domaines de l’IoT et de l’automobile. À l’avenir, Hitachi s’engage à améliorer ses produits en exploitant les données collectées sur les trois gammes de produits pour proposer de nouvelles solutions à valeur ajoutée basées sur les données, contribuant à l’amélioration de la fiabilité et de la sécurité des dispositifs à semi-conducteurs dans ces domaines.



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